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闪烁晶体和探测器可根据不同应用的特定需求进行定制,以实现最佳性能。该定制过程涉及多个关键环节:

定制解决方案

闪烁晶体和探测器可根据不同应用的特定需求进行定制,以实现最佳性能。该定制过程涉及多个关键环节:

晶体生长:优化材料成分、掺杂方式及生长条件,以满足特定性能要求。

晶体加工:设计独特的晶体几何形状与尺寸,并根据客户需求定制表面处理及封装。

晶体阵列制造:根据客户需求定制不同类型的反射层与多层阵列结构,并优化阵列尺寸。

定制光导制造:根据客户要求选择合适的材料与形状。

定制探测器制造:根据客户需求选择合适的光电传感器(如PMT、SiPM或PD)并进行优化耦合。


材料成分

材料成分

可以通过修改闪烁晶体的化学成分来定制闪烁晶体,以提高其在特定应用中的性能。例如,引入少量掺杂剂可以增强晶体的光输出,如铊掺杂的碘化钠 (NaI(Tl)) 和碘化铯 (CsI(Tl))。此外,某些掺杂剂可以影响闪烁过程的衰减时间,例如钇掺杂的氟化钡 (BaF₂-Y)。多种元素共掺杂可以进一步调整能量响应并提高闪烁效率,例如钙共掺杂的 LYSO(Ce) (LYSO(Ca, Ce))。

闪烁晶体可以通过修改化学成分来针对特定应用优化性能。例如,掺入少量掺杂剂可以提高晶体的光输出,如掺铊的碘化钠(NaI(Tl))和掺铊的碘化铯(CsI(Tl))。通过多元素共掺,可以进一步调节能量响应并提高闪烁效率,例如钙掺杂的LYSO(Ce)(LYSO(Ca, Ce))。

表面处理

表面处理

表面处理包括切割、研磨、抛光和封装,可应用于晶体以减少光散射、提高光收集效率,并实现良好的均匀性和能量分辨率。例如,定制的闪烁晶体可以使用不同等级的磨砂粉(如W14和W28)将其磨制到特定的粗糙度(以微米为单位)。此外,采用T0285机械抛光可以使晶体表面达到更亮的效果。

反射层

反射层

反射材料,包括硫酸钡(BaSO₄)、二氧化钛(TiO₂)、E60、ESR和特氟龙(Teflon)等,在应用于单个闪烁晶体时,可以显著提高光收集效率。这些反射材料也可以应用于像素化晶体,以减少相邻像素之间的串扰。例如,LYSO(Ce)和BGO通常使用BaSO₄和ESR作为反射材料应用于PET/SPECT系统,而TiO₂则广泛用于碘化铯(CsI(Tl))、钨酸镉(CdWO₄)和硫氧化钆陶瓷(GOS)中,用于工业CT和X射线安检。

外围封装

外围封装

闪烁晶体可以通过专门的封装设计来提高其性能,并保护其免受湿度、温度、冲击和振动等环境因素的影响。例如,吸湿性材料如NaI(Tl)、LaBr₃(Ce)和CeBr₃都需要铝壳和光学窗口来防止受潮。

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