基于闪烁体的二维阵列通常与像素化光电二极管、位置敏感光电倍增管(PSPMT)和硅光电倍增管(SiPM)配合使用。其主要应用包括医学成像设备(如 PET、SPECT 和 CT 扫描仪),以及无损检测和检验领域。翌波提供多种闪烁晶体,包括 BGO、LYSO、CsI 和 GAGG,并根据客户要求提供像素尺寸和阵列配置的定制服务。BaSO4 和 ESR 常用作反射层材料。这些线性阵列以其高光输出、卓越的灵敏度、优异的能量分辨率和稳定的性能而闻名,无论是在单个像素内还是在多个阵列之间,均表现出一致的性能。
规范参数
闪烁体 | BGO | LYSO | CsI | GAGG |
阵列尺寸 | 可定制 | 可定制 | 可定制 | 可定制 |
表面处理 | 研磨/抛光 | 研磨/抛光 | 研磨/抛光 | 研磨/抛光 |
反射层 | BaSO4 ESR E20 E60L | BaSO4 ESR E20 E60L | TiO2/BaSO4/ESR/E60 | TiO2/BaSO4/ESR/E60 |
像素尺寸 (min, mm) | 0.2×0.2 | 0.2×0.2 | 0.4×0.4 | 0.4×0.4 |
像素间隔 (min, mm) | 0.06, 0.08,0.2 | 0.06, 0.08,0.2 | 0.08,0.1,0.2, 0.3 | 0.08,0.1,0.2, 0.3 |
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